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在現代光學科技體系中，材料性能往往直接決定系統的成像能力、能量傳輸效率與長期穩定性。氟化鈣（Calcium Fluoride，CaF₂）作為一種跨紫外—可見—紅外波段都具有優異透過性能的光學晶體材料，已經成為精密光學、光刻技術、高功率激光系統以及紅外探測器的重要基礎材料。
| 波段范圍 | 透過性能表現 |
| 130–200 nm（深紫外） | 深紫外波段仍可保持可用透過率，原生晶體雜質極低 |
| 200–400 nm（UV） | 透過率可超過 90% |
| 400–700 nm（VIS） | 透過率通常可達 92–94% |
| 1–6 μm（IR） | 透過率平坦穩定，維持高光通量 |
| 參數類別 | 具體規格 |
| 圓形晶體尺寸 | 最大直徑可達 Ø 440 mm；常規供應：Ø 20–200 mm |
| 平板厚度 | 從 1 mm 到 60 mm |
| 可定制形狀 | 平板、窗口、透鏡坯件、準球面、棱鏡、柱體等 |
| 密度 | 3.18 g/cm³ |
| 熔點 | 1418 °C |
| 熱膨脹系數（@20°C） | 18.85 ×10⁻⁶ /K |
| 楊氏模量 | 75.8 GPa |
| 泊松比 | 0.26 |
| 熱導率（25°C） | 9.71 W/mK |
| 維氏硬度 | 158 HV |
核心應用包括半導體光刻（193 nm、248 nm）、DUV 激光系統、UV 光刻機、紫外顯微鏡等。CaF₂ 的低吸收與低色散能顯著提升光刻系統的成像質量，是深紫外光學領域的核心材料。
適配 355 nm / 532 nm 納秒激光、1064 nm 工業激光等場景，可作為高能激光窗口與透鏡，憑借優異的光學穩定性和耐熱性能，保障高功率激光傳輸的效率與安全性。
廣泛應用于光譜儀窗口、精密成像系統、環境監測儀器、天文觀測光學元件等，高透過率與高均勻性確保科研數據的準確性和成像系統的清晰畫質。
適用于紅外傳感器、熱像儀鏡頭、中紅外窗口、紅外濾光片、激光探測器封裝窗口等，在中紅外波段的穩定透過性能使其成為紅外探測技術的關鍵材料。
| 特點一 | 特點二 | 特點三 | 特點四 |
| 寬透射波段（覆蓋 DUV–IR） | 大尺寸晶體能力，適合高級光學制造 | 內部缺陷控制能力強，均勻性高 | 可定制多形狀、多規格加工件 |
HELLMA 氟化鈣（CaF₂）晶體材料憑借跨深紫外至紅外的寬波段高透過性能，成為高端光學系統的核心基礎材料。其大尺寸制備能力、低缺陷率、高均勻性等優勢，滿足半導體光刻、高功率激光、紅外探測等高端領域的嚴苛要求。多樣化的定制加工選項與穩定的物理化學性能，使其在精密光學制造、科研儀器、工業檢測等多個領域具備不可替代的價值，為光學技術的創新與應用提供可靠支撐。
